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        真空鍍膜設備實驗分析與討論

        作者:溫州馳誠真空機械有限公司  來源:http://www.ncfinspect.com  更新時間:2015-11-30 14:35:13  點擊次數:

        真空鍍膜設備實驗分析與討論

        1)蒸發過程中的真空條件 
        真空容器內蒸汽分子的平均自由程大于蒸發源與基片的距離 (稱蒸距)時, 就會獲得充分的真空條件。為此, 增加殘余氣體的平均自由程, 借以減少蒸汽分子與殘余氣體分子的碰撞幾率, 把真空室內抽成高真空是非常必要的。 
        2)蒸發源選取原則 
        ①有良好的熱穩定性,化學性質不活潑,達到蒸發溫度時加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。 
        ②蒸發源的熔點要高于被蒸發物的蒸發溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。 
        ③蒸發物質和蒸發源材料的互熔性必須很底,不易形成合金。 
        ④要求線圈狀蒸發源所用材料能與蒸發材料有良好的浸潤,有較大的表面張力。 
        ⑤對于不易制成絲狀、或蒸發材料與絲狀蒸發源的表面張力較小時,可采用舟狀蒸發源。 
        3)熱蒸發鍍膜主要物理過程  
        ①采用各種形式的熱能轉換方式,使鍍膜材料蒸發或升華,成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態粒子(原子、分子或原子團);  
        ②氣態粒子通過基本上無碰撞的直線運動方式傳輸到基片; 
        ③粒子沉積在基片表面上并凝聚成薄膜。 
        4)影響真空鍍膜質量和厚度的因素: 
        影響真空鍍膜質量和厚度的因素有很多,主要有真空度、蒸發源的形狀、基片的位置、蒸發源的溫度等。固體物質在常溫和常壓下,蒸發量極低。真空度越高,蒸發源材料的分子越易于離開材料表面向四周散射。真空室內的分子越少,蒸發分子與氣體分子碰撞的概率就越小,從而能無阻擋地直線達到基片的表面。 
        實驗總結 
        本實驗是有關真空鍍膜技術的基礎性實驗,屬于技術性實驗,通過這個實驗讓我進一步熟悉真空獲得和測量,學會使用蒸發鍍膜技術,了解蒸發鍍膜的原理及方法和了解真空鍍膜技術。同時培養了我嚴謹的作風,提供了極好的學習與實踐機會。
        真空鍍膜設備
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