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        真空鍍膜設備真空鍍膜機薄膜均勻性概念

        作者:溫州馳誠真空機械有限公司  來源:http://www.ncfinspect.com  更新時間:2021-9-22  點擊次數:

         真空鍍膜設備真空鍍膜機薄膜均勻性概念

        1.真空鍍膜設備真空鍍膜機厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內,也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據不同鍍膜給出詳細解釋。
        2.真空鍍膜設備真空鍍膜機化學組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學,那么實際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學成分,這也是真空鍍膜的技術含量所在。 具體因素也在下面給出。
        3.真空鍍膜設備真空鍍膜機晶格有序度的均勻性: 這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術中的熱點問題,具體見下。
        真空鍍膜設備真空鍍膜機主要分類有兩個大種類: 蒸發沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜,具體則包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,溶膠凝膠法等等 。
        對于蒸發鍍膜:一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。
        真空鍍膜設備真空鍍膜機厚度均勻性主要取決于:
        1?;牧吓c靶材的晶格匹配程度
        2、基片表面溫度
        3. 蒸發功率,速率
        4. 真空度
        5. 鍍膜時間,厚度大小。
        組分均勻性:蒸發鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發鍍膜的組分均勻性不好。
        晶向均勻性:1。晶格匹配度  2。 基片溫度  3。蒸發速率
        真空鍍膜機
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