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        真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機常見問題

        作者:溫州馳誠真空機械有限公司  來源:http://www.ncfinspect.com  更新時間:2021-8-5 11:13:58  點擊次數:

        真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機常見問題

        真空鍍膜設備磁控濺射鍍膜機其工作原理是在真空狀態下,使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦,黑色碳化鈦,七彩的氮氧化鈦等。亦可鍍防腐蝕膜(如AL,Cr不銹鋼及TiN等)和耐磨膜,膜層與基底結合牢固,利用濺射工藝進行鍍膜,可提高膜層的附著力、重復性、致密度、均勻度等特點。適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等、工藝品、塑料手機殼、電子產品、建材等行業,具有很好的發展前景。

        真空鍍膜設備膜層灰暗及發黑
        (1)真空度低于0.67Pa。應將真空度提高到0.13-0.4Pa。
        (2)氬氣純度低于99.9%。應換用純度為99.99%的氬氣。
        (3)充氣系統漏氣。應檢查充氣系統,排除漏氣現象。
        (4)底漆未充分固化。應適當延長底漆的固化時間。
        (5)鍍件放氣量太大。應進行干燥和封孔處理
        真空鍍膜設備膜層表面光澤暗淡
        (1)底漆固化不良或變質。應適當延長底漆的固化時間或更換底漆。
        (2)濺射時間太長。應適當縮短。
        (3)濺射成膜速度太快。應適當降低濺射電流或電壓
        真空鍍膜設備膜層色澤不均
        (1)底漆噴涂得不均勻。應改進底漆的施涂方法。
        (2)膜層太薄。應適當提高濺射速度或延長濺射時間。
        (3)夾具設計不合理。應改進夾具設計。
        (4)鍍件的幾何形狀太復雜。應適當提高鍍件的旋轉速度
        真空鍍膜設備膜層發皺、龜裂
        (1)底漆噴涂得太厚。應控制在7—lOtan厚度范圍內。
        (2)涂料的粘度太高。應適當降低。
        (3)蒸發速度太快。應適當減慢。
        (4)膜層太厚。應適當縮短濺射時間。
        (5)鍍件溫度太高。應適當縮短對鍍件的加溫時間
        真空鍍膜設備膜層表面有水跡、指紋及灰粒
        (1)鍍件清洗后未充分干燥。應加強鍍前處理。
        (2)鍍件表面濺上水珠或唾液。應加強文明生產,操作者應帶口罩。
        (3)涂底漆后手接觸過鍍件,表面留下指紋。應嚴禁用手接觸鍍件表面。
        (4)涂料中有顆粒物。應過濾涂料或更換涂料。
        (5)靜電除塵失效或噴涂和固化環境中有顆?;覊m。應更換除塵器,并保持工作環境的清潔
        真空鍍膜設備膜層附著力不良
        (1)鍍件除油脫脂不徹底。應加強鍍前處理。
        (2)真空室內不清潔。應清洗真空室。值得注意的是,在裝靶和拆靶的過程中,嚴禁用手
        或不干凈的物體與磁控源接觸,以保證磁控源具有較高的清潔度,這是提高膜層結合力的重
        要措施之一。
        (3)夾具不清潔。應清洗夾具。
        (4)底涂料選用不當。應更換涂料。
        (5)濺射工藝條件控制不當。應改進濺射工藝條件
        真空鍍膜設備
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